一、HP-2氦氣純化器純化氣體：He、Ar、Ne、Kr、Xe、Rn最大操作壓力：1000Psi去除氣體：H2、O2、N2、CO、CO2、CH4、H2O、NO、NH3、CF4等殘留濃度： 10ppbValco氦氣（HP）純化器的純化基質(zhì)是一種無(wú)揮發(fā)性的吸附性合金，吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過(guò)加熱活化，活化過(guò)程必須在真空或惰性氣體環(huán)境下完成，這樣可允許氦氣在其間自由擴(kuò)散，防止氧氣純化層的形成，又可以進(jìn)行雜質(zhì)氣體的吸附。HP的吸附劑材料具有良好的熱穩(wěn)定性，包括兩個(gè)溫度控制范圍。 二、NP-2氮?dú)饧兓?純化氣體：只純化N2不純氣去除：輸入氣雜質(zhì)濃度在10ppm純化輸出低于10ppbH2O,H2,O2,NO,NH3,CO,CO2,CH4,其他氣體去除包括CF4,CCl4,SiH4,H2不被去除的：He,Ar,Ne,Kr,Xe,Rn