短波長紫外線清洗、改質(zhì)裝置。具有干洗處理、無需真空處理、無破壞燈特長，紫外線燈和照射裝置所獨有的高輸出照射技術(shù)，實現(xiàn)了以往用溶劑或超聲波清洗液難以達到的高品質(zhì)、高速處理效果。為客戶能制造出更高品質(zhì)的產(chǎn)品而提供最先進的紫外線清洗和紫外線改質(zhì)。

巖征紫外線清洗：利用紫外線的作用所產(chǎn)生的臭氧，從臭氧中分解出的活性氧把有機污染物質(zhì)分解成揮發(fā)性物質(zhì)（例如H2O、CO、CO2、NO2）并將之除去。

巖征紫外線改質(zhì)：有機系被照射物通過紫外線的照射，使表面層的化學結(jié)合被切斷，同時紫外線所產(chǎn)生的臭氧所分解出的活性氧將被切斷的表面層的分子結(jié)合，轉(zhuǎn)換成高親水性的官能團（例如：-OH、-CHO、-COOH）。

巖征儀器?UV光清洗、改質(zhì)設備特點（Product?Features）：

1、?批式裝置（光源可配）

2、?小型輕巧低成本：移動、安裝簡單的輕巧機身，輕量設計，此外，無真空處理污水處理、電氣工程等附帶設備。

3、操作簡單：操作方法非藏簡單，也容易保養(yǎng)，只要設定處理時間，然后按開始按鈕便會啟動。

4、?款式豐富：款式豐富，能對應各種尺寸的處理物。

靈活的設計：能設計成適合各種類型制品的形狀、處理速度的各種燈的裝載機，也容易保養(yǎng)。

5、構(gòu)造安全：裝置是完全封閉的構(gòu)造，不必擔心臭氧或紫外線的泄漏。排放的臭氧通過催化作用進行分解處理。

巖征儀器?UV光清洗、改質(zhì)設備應用：

?????表面的原子級清洗?
???聚合物粘接
???去除有機分子
???釋放捕獲的無機分子
???微流控制作
???微米/納米構(gòu)型
???紫外光固化
???表面化學改性
???表面殺菌
???表面氧化
???金屬粘結(jié)準備

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