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供應(yīng)UB-C氰銅添加劑、電鍍添加劑、電鍍光亮劑、電鍍中間體、堿銅光亮劑

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品 牌: 攸碧晟 
型 號(hào): UB-C 
單 價(jià): 面議 
起 訂: 25 公斤 
供貨總量: 5000 公斤
發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
所在地: 江蘇 揚(yáng)州市
有效期至: 長(zhǎng)期有效
更新日期: 2013-07-07 08:37
瀏覽次數(shù): 880
詢價(jià)
公司基本資料信息
 
 
 
【供應(yīng)UB-C氰銅添加劑、電鍍添加劑、電鍍光亮劑、電鍍中間體、堿銅光亮劑】詳細(xì)說明
產(chǎn)品品牌:攸碧晟
產(chǎn)品型號(hào):UB-C

UB-C青化鍍銅添加劑一、特征1. 為電鍍鋅基鑄件時(shí)必備的銅層。由于光亮青化鍍銅層平滑、緊密、幼細(xì),故可增長(zhǎng)青化鍍銅時(shí)間,使整件鋅基鑄件完全被銅層鍍覆,為后繼鍍酸銅及亮鎳提供保障,不致發(fā)生故障。2. 電流密度范圍寬廣,沉積速度較快。3. 可作滾鍍及掛鍍。4. 雜質(zhì)容忍度高,易于控制。5. 如鍍件全部為鋼鐵工件時(shí),氫氧化鈉含量可提高至10~30g/l。二、工藝組成
溶液組成控制范圍操作條件控制范圍
氰化亞銅氰 化 鈉酒石酸鉀鈉氫氧化鈉50~70g/l70~100g/l20~30g/l3~10g/l溫 度℃電流密度陽(yáng)極材料攪拌方式50~700.5~4A/dm2無(wú)氧電解銅空氣或機(jī)械
注:酒石酸鉀鈉和諾切液二選一使用。
添加劑組成開 缸 量消 耗 量溶液控制控制范圍
UB-C3高位劑UB-C4低位劑諾 切 液5~7ml/l5~7ml/l30~50ml/l100ml/ka.h300ml/ka.h帶出消耗金 屬 銅游離氰化鈉氫氧化鈉37~50g/l15~20g/l3~10g/l
三、生產(chǎn)維護(hù)金屬銅由氰化亞銅補(bǔ)充,同時(shí)應(yīng)加入同樣分量的氰化鈉以保持游離氰化鈉的含量在正常水平。諾切液的使用可有效地促進(jìn)陽(yáng)極的溶解及減少氰化鈉用量,除開缸外每天適量的添加有利于鍍層結(jié)晶細(xì)化。諾切液的消耗以帶出為主。UB-C3高位光亮劑幫助高電流區(qū)鍍層的平滑,能降低鍍層出現(xiàn)針孔的機(jī)率,與氰化亞銅作用相似,使鍍層顏色偏紅。UB-C4低位光亮劑幫助中低位電流區(qū)鍍層的光亮平整,能拓寬鍍層的光亮范圍,與氰化鈉作用相似,使鍍層顏色偏白。四、建議定期的活性炭處理以及除去過量的碳酸鈉對(duì)鍍液的長(zhǎng)期穩(wěn)定有良好的作用。五、配套產(chǎn)品 UB-C5氰化鍍銅深度劑、UB-C6氰化鍍銅除鋅劑、UB-C7氰化鍍銅鋅抑制劑、UB-C8氰化鍍銅促進(jìn)劑、UB-C9氰化鍍銅鉻處理劑(非保險(xiǎn)粉類)、UB-C10氰化鍍銅抑霧劑。
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