絕緣膜、半導(dǎo)體絕緣膜制造技術(shù)生產(chǎn)工藝配方專利大全01、電容絕緣膜及其制造方法、電容元件及其制造方法和半導(dǎo)體存儲(chǔ)裝置及其制造方法 02、高介電常數(shù)絕緣膜、薄膜電容元件、薄膜疊層電容器及薄膜電容元件的制造方法 03、含有機(jī)硅烷化合物的絕緣膜用材料及其制法及半導(dǎo)體裝置 04、絕緣膜以及半導(dǎo)體器件的制造方法 05、含有機(jī)硅烷化合物的絕緣膜用材料及其制法及半導(dǎo)體裝置 06、低介電常數(shù)絕緣膜的制造 07、絕緣膜的形成方法及其形成系統(tǒng)、半導(dǎo)體裝置的制造方法 08、輻射敏感性樹脂組合物、層間絕緣膜和微透鏡以及它們的制備方法 09、在基板上形成絕緣膜的方法、半導(dǎo)體裝置的制造方法和基板處理裝置 10、絕緣膜成形方法、絕緣膜成形裝置和等離子體膜成形裝置 11、半導(dǎo)體集成電路用絕緣膜研磨劑組合物及半導(dǎo)體集成電路的制造方法 12、形成半導(dǎo)體基體上的絕緣膜的方法 13、柵極絕緣膜的形成方法、存儲(chǔ)介質(zhì)、計(jì)算機(jī)程序 14、絕緣膜的形成方法 15、形成含硅絕緣膜的CVD方法和裝置 16、TFT-LCD用層間有機(jī)絕緣膜用丙烯酸類共聚物樹脂的制造方法 17、檢測(cè)絕緣膜的方法和裝置，對(duì)其打孔的裝置及控制方法 18、生產(chǎn)絕緣膜的涂料組合物、使用該涂料組合物制備絕緣膜的方法、由其得到的用于半導(dǎo)體器件的絕緣膜及含有該絕...... 19、含有有機(jī)硅烷、有機(jī)硅氧烷化合物形成的絕緣膜用材料、其制造方法和半導(dǎo)體器件 20、形成有機(jī)絕緣膜的組合物及用其形成有機(jī)絕緣膜圖案的方法 21、形成層間絕緣膜用的射線敏感性樹脂組合物和層間絕緣膜 22、有機(jī)硅氧烷樹脂以及使用該有機(jī)硅氧烷樹脂的絕緣膜 23、薄膜電容元件用組合物、高介電常數(shù)的絕緣膜、薄膜電容元件、薄膜積層電容器、電路和電子儀器 24、形成絕緣性能改進(jìn)的絕緣膜的方法 25、硅氧烷基樹脂及用其制造的半導(dǎo)體的層間絕緣膜 26、包含鍺的硅氧烷基樹脂和使用該樹脂的半導(dǎo)體器件用間層絕緣膜 27、硅氧烷基的樹脂和使用其制造的半導(dǎo)體器件的層間絕緣膜 28、新穎的硅氧烷基樹脂和使用該樹脂形成的間層絕緣膜 29、半導(dǎo)體裝置的絕緣膜形成方法及半導(dǎo)體裝置 30、基底絕緣膜的形成方法 31、絕緣膜成膜用原料及使用該原料的成膜方法 32、多官能環(huán)狀硅酸鹽（或酯）化合物，由該化合物制得的基于硅氧烷的聚合物和使用該聚合物制備絕緣膜的方法 33、光敏性聚酰亞胺樹脂組合物、使用該組合物的絕緣膜、其制造方法及使用絕緣膜的電子器件 34、具有改善的機(jī)械特性的絕緣膜合成物 35、有機(jī)無(wú)機(jī)混合絕緣膜的形成方法 36、有機(jī)硅酸鹽聚合體和含有該有機(jī)硅酸鹽聚合體的絕緣膜 37、層間絕緣膜及其形成方法以及聚合物組合物 38、輻射敏感樹脂組合物，形成有圖案絕緣膜的形成方法，裝配有該膜的有源矩陣板和平板顯示設(shè)備，和生產(chǎn)平板顯示...... 39、絕緣膜的蝕刻方法 40、在硅基底中形成絕緣膜的方法 41、多孔膜形成用組合物、多孔膜及其制造方法、層間絕緣膜和半導(dǎo)體裝置 42、有機(jī)絕緣膜、其制造方法、使用該有機(jī)絕緣膜的半導(dǎo)體器件及其制造方法 43、絕緣膜氮化方法、半導(dǎo)體裝置及其制造方法、基板處理裝置和基板處理方法 44、非取向型電磁鋼板的制備方法及所用的絕緣膜形成劑 45、耐熱絕緣膜和絕緣方法 46、有機(jī)絕緣膜的蝕刻方法和雙波紋處理方法 47、形成半導(dǎo)體器件的層間絕緣膜的方法 48、用于半導(dǎo)體裝置中的絕緣膜和半導(dǎo)體裝置 49、通過電子束輻射制作絕緣膜線路圖形的方法 50、用犧牲可流動(dòng)氧化物雙嵌埋形成多共面金屬/絕緣膜的方法 51、介電常數(shù)降低的改進(jìn)二氧化硅絕緣膜及其形成方法 52、金屬高溫絕緣膜 53、形狀記憶合金表面原位制備絕緣膜 54、非取向型電磁鋼板、其制備方法及所用絕緣膜形成劑 55、改進(jìn)了高溫下收縮性的雙軸取向絕緣膜 56、用于形成絕緣膜的涂料組合物,用此涂料組合物涂覆的未取向電工鋼板,以及在該鋼板上形成該絕緣膜的方法 57、絕緣膜形成用涂料及用該涂料的等離子顯示板的制造方法 58、用于透明絕緣膜的糊料和其制造方法、等離子顯示板和其制造方法 59、絕緣膜的形成方法及半導(dǎo)體器件的制造方法 60、低介電常數(shù)絕緣膜及其形成方法,以及使用它的電路 61、柵絕緣膜的形成方法 62、絕緣膜形成材料,絕緣膜,形成絕緣膜的方法及半導(dǎo)體器件 63、低介電常數(shù)絕緣膜用組合物、絕緣膜形成方法及電子零件 64、絕緣膜刻蝕裝置 65、絕緣膜的制造裝置 66、含有機(jī)硅烷化合物的絕緣膜用材料及其制法及半導(dǎo)體裝置 67、低介電常數(shù)絕緣膜形成用材料、低介電常數(shù)絕緣膜、低介電常數(shù)絕緣膜的形成方法及半導(dǎo)體器件 68、電池以及引線絕緣膜 69、絕緣膜的形成方法和半導(dǎo)體裝置的制造方法 70、一種制備絕緣膜和顯示器的射線敏感組合物 71、含低介電常數(shù)絕緣膜的半導(dǎo)體裝置的制造方法 72、絕緣膜用材料，絕緣膜用罩光清漆,以及絕緣膜和采用該膜或該清漆的半導(dǎo)體裝置 73、耐熱性樹脂的預(yù)聚體,耐熱性樹脂,絕緣膜和半導(dǎo)體裝置 74、有機(jī)硅酸酯聚合物和從其得到的絕緣膜 75、半導(dǎo)體裝置的層間絕緣膜的形成方法