A62741 蝕刻技術(shù)、化學(xué)蝕刻液配方、蝕刻機(jī)技術(shù)專利大全（本輯280元，含下列84項(xiàng)；）（特別提示：本站的專利文獻(xiàn)均已被編成word格式，這在業(yè)內(nèi)獨(dú)樹一幟。） 01、用于鈦及鈦合金的化學(xué)蝕刻溶液 02、用于鉬的化學(xué)蝕刻溶液 03、用于鋁及鋁合金的化學(xué)蝕刻溶液 04、蝕刻方法及蝕刻裝置 05、銦氧化物層的蝕刻劑組合物及使用它的蝕刻方法 06、干蝕刻裝置以及安裝于其上的氣孔裝置 07、蝕刻溶液及利用包括該溶液的過程形成半導(dǎo)體器件的方法 08、半導(dǎo)體蝕刻裝置 09、酸性蝕刻液再生方法和酸性蝕刻液再生裝置 10、干式蝕刻方法、磁記錄介質(zhì)的制造方法和磁記錄介質(zhì) 11、干蝕刻后的洗滌液組合物及半導(dǎo)體裝置的制造方法 12、鈦或鈦合金用蝕刻液 13、蝕刻半導(dǎo)體基底的方法 14、蝕刻用組合物及蝕刻處理方法 15、用于包括反射電極的疊合膜的蝕刻組合物以及用于形成疊層布線結(jié)構(gòu)的方法 16、撓性印刷電路絕緣薄膜的化學(xué)蝕刻法及其蝕刻液 17、蝕刻液回收系統(tǒng)與方法 18、用于蝕刻硅晶片的高純度堿蝕刻溶液及硅晶片的堿蝕刻方法 19、生產(chǎn)結(jié)構(gòu)體的方法和氧化硅膜用蝕刻劑 20、機(jī)動車玻璃蝕刻劑及其應(yīng)用方法 21、金屬膜的蝕刻液組合物 22、蝕刻方法、制造半導(dǎo)體裝置的方法以及半導(dǎo)體裝置 23、蝕刻高介電常數(shù)材料和清洗用于高介電常數(shù)材料的沉積室的方法 24、蝕刻液、其補(bǔ)給液、使用其的蝕刻方法和布線基板的制法 25、控制蝕刻工序的精確度和再現(xiàn)性的方法 26、在蝕刻處理中控制關(guān)鍵尺寸的方法 27、銅的各向同性蝕刻方法 28、蝕刻氮化硅薄膜的設(shè)備及方法 29、等離子體蝕刻方法 30、等離子蝕刻機(jī) 31、蝕刻方法及使用蝕刻方法的電路裝置的制造方法 32、玻璃板表面蝕刻方法和裝置、及玻璃板和平面顯示器 33、蝕刻掩模 34、雙面蝕刻晶片的方法 35、等離子體蝕刻方法和等離子體處理裝置 36、選擇性蝕刻摻雜碳的低介電常數(shù)材料的方法 37、蝕刻劑、補(bǔ)充液以及用它們制造銅布線的方法 38、等離子體處理法、等離子體蝕刻法、固體攝像元件的制法 39、干蝕刻后處理方法 40、改善蝕刻后光刻膠殘余的半導(dǎo)體器件制造方法 41、半導(dǎo)體器件制造方法和蝕刻系統(tǒng) 42、蝕刻系統(tǒng)及其蝕刻液處理方法 43、蝕刻反應(yīng)槽 44、半導(dǎo)體蝕刻速度改進(jìn) 45、濕蝕刻設(shè)備 46、改善蝕刻中止層與金屬層間的粘著性的工藝與結(jié)構(gòu) 47、干式蝕刻裝置及干式蝕刻方法 48、蝕刻系統(tǒng)及其純水添加裝置 49、銅或銅合金的蝕刻溶液以及使用該溶液的電子基板的制法 50、液相蝕刻方法及液相蝕刻裝置 51、硅的各向異性濕式蝕刻 52、用于對有機(jī)類材料膜進(jìn)行等離子體蝕刻的方法和裝置 53、通過電化學(xué)蝕刻生產(chǎn)鈮或鉭成型物件的方法 54、保護(hù)層的選擇性蝕刻 55、蝕刻液及應(yīng)用該蝕刻液選擇性去除阻障層的導(dǎo)電凸塊制造方法 56、用于多層銅和鉬的蝕刻溶液及使用該蝕刻溶液的蝕刻方法 57、蝕刻液組合物及使用該蝕刻液組合物制造反射板的方法 58、含鎳三氯化鐵蝕刻廢液的再生方法 59、一種無酸的金屬蝕刻方法和它的蝕刻機(jī) 60、以銀為主成分的金屬薄膜的蝕刻液組合物 61、用于疊層膜的組合式濕蝕刻方法及系統(tǒng) 62、多層膜的干濕結(jié)合蝕刻方法 63、增強(qiáng)等離子體蝕刻性能的方法 64、靜電蝕刻方法及其裝置 65、控制蝕刻深度的裝置和方法 66、蝕刻液的再生方法、蝕刻方法和蝕刻系統(tǒng) 67、用于含水酸蝕刻溶液的氟化表面活性劑 68、用于緩沖酸蝕刻溶液的氟化表面活性劑 69、以可重復(fù)使用的屏蔽進(jìn)行的玻璃蝕刻方法 70、Si蝕刻方法及蝕刻裝置 71、生產(chǎn)蝕刻光導(dǎo)纖維束的方法和改良的蝕刻光導(dǎo)纖維束 72、用于硅表面和層的蝕刻糊 73、蝕刻工藝中用于硬化光致抗蝕劑的方法和組合物 74、用于鈦氧化物表面的蝕刻糊 75、可溶于光致抗蝕劑顯影液的有機(jī)底部抗反射組合物及使用該組合物的光刻和蝕刻方法 76、多重蝕刻仿鑄銅工藝及其產(chǎn)品 77、含鎳三氯化鐵蝕刻廢液的再生方法 78、銀合金蝕刻液 79、水含量降低的酸蝕刻混合物 80、蝕刻氮化硅薄膜的設(shè)備及方法 81、用于控制摻碳氧化物薄膜的蝕刻偏差的方法 82、等離子體蝕刻方法 83、低介電常數(shù)介電質(zhì)層的蝕刻方法 84、金屬蝕刻畫的制造方法