EDI與傳統(tǒng)混床的比較　　 項(xiàng)目EDI混床產(chǎn)水性質(zhì)15～18M cm2～10M cm穩(wěn)定性水質(zhì)穩(wěn)定水質(zhì)受樹(shù)脂交換狀況，再生品質(zhì)影響大操作性操作簡(jiǎn)便，無(wú)需專業(yè)熟練工再生時(shí)對(duì)操作人員操作水平要求高環(huán)保性無(wú)需酸堿，無(wú)任何化學(xué)污染需要酸堿再生，需解決酸堿儲(chǔ)存與排放的問(wèn)題連續(xù)運(yùn)行再生時(shí)無(wú)需停機(jī)，邊運(yùn)行邊再生再生時(shí)需要停機(jī)再生運(yùn)行費(fèi)用低高初期投資較高低拋光混床 　　采用高交換容量、充分再生、無(wú)化學(xué)析出的核子級(jí)樹(shù)脂，去除純水中殘余的微量帶電 　　離子及弱電解質(zhì)，使水質(zhì)達(dá)到18M cm以上。 　　EDI模塊進(jìn)水條件 　　 PH值5.0～9.5電導(dǎo)率1~20 s/cm,最佳導(dǎo)電率2～20 s/cm總C02 5ppm硅 0.5ppm硬度以（CaC03計(jì)） 1.0ppm進(jìn)水壓力0.15～0.5MPa典型超純水工藝流程圖 　　應(yīng)用領(lǐng)域 　　超純水常用于微電子工業(yè)、半導(dǎo)體工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。 　　流程1：預(yù)處理 單級(jí)反滲透 EDI 拋光樹(shù)脂 　　流程2：預(yù)處理 雙級(jí)反滲透 EDI 拋光樹(shù)脂 　　流程3：預(yù)處理 雙級(jí)反滲透 混床MB 拋光樹(shù)脂 　　EDI模塊結(jié)構(gòu)特點(diǎn) 　　1、淡水隔板采用衛(wèi)生級(jí)PE材料　 　　2、EDI膜片采用進(jìn)口均相膜和國(guó)產(chǎn)異相離子交換膜 　　3、采用進(jìn)口EDI專用均粒樹(shù)脂和國(guó)產(chǎn)EDI專用均粒樹(shù)脂 　　4、EDI電極板采用鈦鍍釕技術(shù) 　　5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成。 　　6、固定螺絲采用國(guó)標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)件 　　7、膜堆出廠最高試壓7bar不漏水 　　8、膜堆電阻低、功耗小 　　9、外觀裝飾板造型美觀結(jié)實(shí) 　　10、最大膜堆處理水量3T/H，最小模堆處理水量75L/H 　　11、純水、濃水、極水通道設(shè)計(jì)合理，不易堵塞，水流分布均勻、無(wú)死角。 　　進(jìn)水指標(biāo)要求 　　◎通常為單級(jí)反滲透或二級(jí)反滲透的滲透水 　　◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計(jì)）： 25ppm。 　　◎電導(dǎo)率： 40 S/cm 　　◎PH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時(shí)，EDI最佳工作的pH范圍為8.0～9.0。 　　◎溫度：5～35℃。 　　◎進(jìn)水壓力： 4bar（60psi）。 　　◎硬度：（以CaCO3計(jì)）： 1.0ppm。 　　◎有機(jī)物（TOC）： 0.5ppm。 　　◎氧化劑：Cl2 0.05ppm，O3 0.02ppm。 　　◎變價(jià)金屬：Fe 0.01ppm，Mn 0.02ppm。 　　◎H2S： 0.01ppm。 　　◎二氧化硅： 0.5ppm。 　　◎色度： 5APHA。 　　◎二氧化碳的總量： 10ppm 　　◎SDI 15min： 1.0。EDI的工作原理　　自來(lái)水中常含有鈉、鈣、鎂、氯、硝酸鹽、矽等溶解鹽。這些鹽是由負(fù)電離子（負(fù)離子）和正電離子（正離子）組成。反滲透可以除去其中超過(guò)99%的離子。自來(lái)水也含有微量金屬，溶解的氣體（如CO2）和其他必須在工業(yè)處理中去除的弱離子化的化合物（如矽和硼）?！　O反滲透出水（EDI進(jìn)水）一般為60-40 /cm（電導(dǎo)），根據(jù)不同需要，超純水或去離子水一般電阻為2-18M m?！　〗粨Q反應(yīng)在模組的純化學(xué)室進(jìn)行，在那里陰離子交換樹(shù)脂用它們的氫氧根據(jù)離子（OH-）來(lái)交換溶解鹽中的陰離了（如氯離子C1）。相應(yīng)地，陽(yáng)離子交換樹(shù)脂用它們的氫離子（H ）來(lái)交換溶解鹽中的陽(yáng)離子（如Na ）?！　≡谖挥谀＝M兩端的陽(yáng)極（ ）和陰極（-）之間加一直流電場(chǎng)。電勢(shì)就使交換到樹(shù)脂上的離子沿著樹(shù)脂粒的表面遷移并通過(guò)膜進(jìn)入濃水室。陽(yáng)極吸引負(fù)電離子（如OH-，CI-）這些離子通過(guò)陰離子膜進(jìn)入相臨的濃水流卻被陽(yáng)離子選擇膜阻隔，從而留在濃水流中。陰極吸引純水流中的陽(yáng)離子（如H ，Na ）。這些離子穿過(guò)陽(yáng)離子選擇膜，進(jìn)入相臨的濃水流卻被陰離子膜陰隔，從而留在濃水流中。當(dāng)水流過(guò)這兩種平行的室時(shí)，離子在純水室被除去并在相臨的濃水流中聚積，然后由濃水流將其從模組中帶走。在純水及濃水中離子交換樹(shù)脂的使用是ElectropupreEDI技術(shù)和專利的關(guān)鍵。一個(gè)重要的現(xiàn)象在純水室的離子交換樹(shù)脂中發(fā)生。在電勢(shì)差高的局部區(qū)域，電化學(xué)反應(yīng)分解的水產(chǎn)生大量的H 和OH-。在混床離子交換樹(shù)脂中局部H 和OH-的產(chǎn)生使樹(shù)脂和膜不需要添加化學(xué)藥品就可以持續(xù)再生?！　∫笶DI處于最佳工作狀態(tài)、不出故障的基本要求就是對(duì)EDI進(jìn)水要求進(jìn)行適當(dāng)?shù)念A(yù)處理。進(jìn)水中的雜質(zhì)對(duì)去離子模組有很大影響。并可能導(dǎo)致縮短模組的壽命?！　∠到y(tǒng)特點(diǎn)　　⊙ 產(chǎn)水水質(zhì)高而穩(wěn)定?！　　?連續(xù)不間斷制水，不因再生而停機(jī)?！　　?無(wú)需化學(xué)藥劑再生。　　⊙ 設(shè)想周到的堆疊式設(shè)計(jì)，占地面積小?！　　?操作簡(jiǎn)單、安全?！　　?運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低?！　　?無(wú)酸堿儲(chǔ)備及運(yùn)輸費(fèi)用?！　　?全自動(dòng)運(yùn)行，無(wú)需專人看護(hù)　　純水處理技術(shù)的發(fā)展主要經(jīng)歷了陰、陽(yáng)離子交換器 混合離子交換器；反滲透 混合離子交換器；反滲透 電去離子裝置等階段；預(yù)處理 反滲透 連續(xù)電解除鹽。整套除鹽系統(tǒng)，有著其他處理系統(tǒng)無(wú)可比擬的優(yōu)點(diǎn)，正被廣泛應(yīng)用于純水、高純水的制備中。應(yīng)用領(lǐng)域　　⊙電廠化學(xué)水處理　　⊙電子、半導(dǎo)體、精密機(jī)械行業(yè)超純水　　⊙制藥工業(yè)工藝用水　　⊙食品、飲料、飲用水的制備　　⊙海水、苦咸水的淡化　　⊙精細(xì)化工、精尖學(xué)科用水　　⊙其他行業(yè)所需的高純水制備