JF-2型X射線晶體分析儀　　晶體分析儀能夠提供穩(wěn)定的X射線光源,用來研究物質(zhì)內(nèi)部的微觀結(jié)構(gòu).　　該儀器的特點是利用可控硅和集成電路自動控制系統(tǒng)進行調(diào)流調(diào)壓,從而獲得一個強而穩(wěn)定的射線光源.該機射線發(fā)生器功率大,整機穩(wěn)定性高,操作簡單,分析速度快,可靠性強,防護完善,可與各種射線照相機一起構(gòu)成X射線晶體分析儀,或用于其他用途的X射線光源.　　X射線晶體分析儀廣泛用于冶金,機械,電子,化工,地質(zhì),建材,環(huán)保,能源,食品等科研,工礦企業(yè)和大專院校.1.使用條件環(huán)境溫度10℃-35℃相對濕度不大于80%電源單向交流220V,頻率50Hz,電源電壓波動范圍不超過額定電壓的10%,電源容量不低于8kVA.接地接地電阻不大于4Ω.冷卻水流量為3.5升/分鐘以上,進水溫度不高于30℃,不低于露點.水質(zhì)應(yīng)達到飲用水質(zhì)量.連續(xù)工作時間:不大于8小時.2.技術(shù)參數(shù)額定功率3額定管電壓0～60kV→0～50kV(10kV～60kV→10～50kV)額定管電流50mA(2mA-50mA分檔可調(diào))射線管最大輸出功率2kW,銅靶保護裝置過kV,過mA,過電流,無水,無壓保護3.組成　JF-2型射線晶體分析儀由射線發(fā)生器,管套,高壓電纜,射線管組成.射線發(fā)生器由高壓變壓器,控制匣組裝,底板組裝,臺體等組成.